长沙创芯集成电路科技园

长沙创芯集成电路科技园项目位于长沙县经开区，由四栋厂房及综合楼组成，其中101#芯片生产厂房，总建筑面积达36752平方米，建筑高度为23.4米，结构形式为钢结构多层工业厂房，钢结构屋架跨度为76米，B 区二层楼板为新型材料华夫板，面积达5500平方米。

长沙创芯集成电路有限公司（Changsha Innovation Semiconductor Corp.）为外商独资企业，注册资金3100万美元，总投资金额3亿美元，位于湖南省长沙经济技术开发区黄兴大道东侧，人民东路和映霞路之间。

长沙创芯集成电路有限公司拥有完整的六英寸晶圆设备和生产技术，企业管理团队具有多年的海内外集成电路企业运营经验，是专门从事集成电路制造和工艺研发的高新科技企业。公司坚持以客户为导向，完善各项管理体系，提供晶圆生产代工服务，包括CMOS, Bipolar, BiCMOS, 平面和沟槽DMOS, BCDMOS, MASK ROM等标准工艺及一系列客制化工艺平台,如IGBT。

6英寸0.35μm功率及模拟集成电路芯片生产线设计产能6万片/月，第一阶段达产规模为3.5万片/月，为湖南首家开放式集成电路生产工厂，主要以0.35μm及以上的国际通用的标准工艺技术为主体流程，再依客户产品不同的需求，开发客制化工艺平台。产品包括：驱动IC、电源管理IC、混合讯号处理、RF IC及分立器件等，主要应用于电源控制类产品、各类电子产品的电源（家电、手机等）、智能电网、高铁、太阳能及转换、电动汽车等领域。